 | 天津中環(huán)電爐股份有限公司 |
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詳細摘要：CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領域。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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詳細摘要：CVD系統(tǒng)系周期作業(yè)，供企業(yè)實驗室，大專院校，科研院所等單位選用，設備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境，應用在半導體，納米技術(shù)，碳纖維等新材料新工藝領域。 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空） 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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詳細摘要：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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詳細摘要：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：操作便捷性：1、方便的氣路快速連接口，簡化了流量控制系統(tǒng)與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口（寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口），方便組合多種連接方式。 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：操作便捷性：1、方便的氣路快速連接口，簡化了流量控制系統(tǒng)與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口（寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口），方便組合多種連接方式。 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：操作便捷性：1、方便的氣路快速連接口，簡化了流量控制系統(tǒng)與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口（寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口），方便組合多種連接方式。 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：公司主營快速退火爐 馬佛爐管式電阻爐/熱處理電阻爐/高溫箱式電阻爐中環(huán)電阻爐/干燥箱/恒溫干燥箱/鼓風干燥箱/電熱鼓風干燥箱/真空干燥箱/遠紅外干燥箱/濕熱實驗箱/高溫電熱鼓風干燥箱/大型電熱鼓風干燥箱/水箱/電熱水箱/恒溫水箱/電熱恒溫水箱/萬用電爐/封閉萬用電爐/封閉電爐/CVD爐/cvd電爐/rtp爐/快速退火爐/立式電爐/管爐/石磨希電爐/RTP/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：操作便捷性：1、抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結(jié)構(gòu)。簡化安裝過程，只需用卡箍便可完成連接，方便操作。2、配置兩種電源連接線，即可直接與我公司的產(chǎn)品直接連接組合使用，也可單獨連接都室內(nèi)電源獨立使用。 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：操作便捷性：抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結(jié)構(gòu)。簡化安裝過程，只需用卡箍便可完成連接，方便操作 。 產(chǎn)品型號：所在地：天津市北辰區(qū)北辰科技園區(qū)雙川道11號 參考價：面議
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詳細摘要：操作便捷性：抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結(jié)構(gòu)。簡化安裝過程，只需用卡箍便可完成連接，方便操作 。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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詳細摘要：產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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詳細摘要：產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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詳細摘要：CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領域。 產(chǎn)品型號：所在地： 參考價：面議
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天津中環(huán)電爐股份有限公司主營產(chǎn)品：氣氛管式爐，高溫箱式電爐，高溫鐘罩爐
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