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TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2680
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 2884
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2642
CVD化學氣相沉積設備PX 3828
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 6964
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3779
C2GR16-氣相沉積爐PX 2690
CC-200日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備PX 3985
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3180
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 2100
微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3299
CVD化學氣相沉積裝置PX 3044
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2995
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3020
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 3889
等離子體化學氣相沉積設備PX 2683
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 2749
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3758
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3698
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2884
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)(MOCVD)PX 2884
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備PX 2884
PECVDPX 3828
非標定制熱絲法化學氣相沉積CVD金剛石PX 0
非標定制等離子體增強化學氣相沉積 PECVDPX 0
CY-PECVD50-1200-Q三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備PX 0
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 0
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
CY-PECVD-240T-SS等離子增強化學氣相沉積設備PX 0
CME-200E/400日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備PX 3985
GS-30-700(廣樹)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 3180
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 2100
customized低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 2100
customized等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2100
customized化學氣相沉積MOCVDPX 2100
PD-200STL等離子體增強型CVD系統(tǒng)PX 2100
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